林本坚现在在台积电？

1942年出生于越南，后1959年进入国立新竹高级中学，1963年毕业于国立台湾大学，后留学美国，1970年毕业于俄亥俄州立大学获得电机工程学博士。[1]后任职于IBM，1984年担任研发部经理。[2][3] 1992年从IBM提前退休并同年创立领创公司担任总经理，2000年回到台湾加入台积电。[4]2002年研发出193纳米浸润式微影技术，2015年从台积电退休后，担任国立清华大学教授。[5][6][7]

林本坚 在台积电研发的期间带领团队从130纳米、做到90纳米、65纳米、40纳米、28纳米、20纳米、和16纳米，并开始研发10纳米、7纳米、和5纳米。他的创新和推动不但让全球芯片工艺得以往下推进了6、7代，台积电也因此跻身一线大厂、主导业界规格。台积电董事长张忠谋曾称，假如没有林本坚及其团队，“台积电的光刻技术不会有今天这规模。”

ASML又接单了

作为台积电的好战友，ASML和台积电一直在挑战人类科技的极限，两家的营收也是共创辉煌。昨日，全球光刻机龙头ASML发布第三季度财报，数据显示第三季ASML营收达30亿欧元，净利6．27亿欧元，毛利率43．7％，预估第四季将持续成长，营收落在约39亿欧元，毛利率预估为48至49％区间。ASML表示第三季度已经完成了7台EUV系统出货，并且接到23台EUV系统订单，创下了单季最高订单金额记录，在这一份成就的背后，台积电作为最大的客户出了不少力。

三星和台积电在先进制程的角逐一直进行，自2018年起，作为全球首家量产7nm FinFET工艺的企业，台积电一度领先业内，并于2019年将极紫外光刻技术加入到7nm制程中，三星不甘居第二的排名，近期频繁发布其晶圆代工领域的投资计划，传近日三星电子向ASML加订了15台EUV设备。

2019年ASML计划生产30台EUV光刻机，其中18台都被台积电预定，以每台光刻机1．2亿美元的报价，台积电采购这些光刻机总共花了150亿人民币，而这些光刻机推动了台积电7nm的出货量大增，光刻机在台积电手里成了印钞机。今年以来台积电的营收屡破纪录，产能全线告急，16nm下单需要提前预定，甚至将英特尔挤下半导体龙头位子，业绩是芝麻开花节节高，制程也在不断的刷新。台积电近日宣布，已经开始了7nm＋ EUV工艺的大规模量产，这是该公司乃至整个半导体产业首个商用EUV极紫外光刻技术的工艺。

一台顶级光刻机的关键零部件来自不同的西方发达国家，美国的光栅，德国的镜头，瑞典的轴承，法国的阀件等等，就算要命的是所有这些顶级零件都是对中国禁运的，而且我们的大学研究机构在半导体领域也偏薄弱，无法提供有效的技术支持，致使我国的光刻机技术一直处在弱势地位，这个行业也是欧美对我们进行深度卡脖子的环节。

半导体 光刻技术
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