彭博社报道了华为Mate 60的 7 纳米芯片技术突破是对美国芯片管制的当头一棒，同时彭博社另一篇文章则说，虽然美国的芯片管制漏洞百出，但并不是一无用处。文章说，北京庆祝、华盛顿担忧，现在还为时过早。
了解一下光刻机背景有助于了解这个判断。7纳米技术在5年前国外芯片大厂已经技术成熟，那时候主要用老式的DUV光刻机量产 7 纳米芯片，制作方法是多重图案化（multiple-patterning），其基本操作不是把一片硅片暴露在光下一次就能标出电路设计，而是要做很多次。与一次曝光相比，多重曝光在生产效率、良品率、成本等方面有明显劣势。所以在那个时候，国际前沿正在用新型EUV光刻机测试量产一次曝光造7纳米芯片。到现在，EUV光刻机已经成熟量产，不仅能造7纳米，更小的5纳米、3纳米等也能量产了。
现在问题是，美国的芯片管制，目前是严禁ASML出售EUV光刻机给中国，但是没有禁DUV光刻机。所以拥有DUV光刻机的中国制造出 7 纳米是有可能的，说明中国芯片制造商已经掌握了台积电发明的多重图案化（multiple-patterning）技术。
但是问题的瓶颈是DUV光刻机的制造极限为7纳米，再往下它就做不到了。除非中国能够自己制造出EUV级别的光刻机，否则是很难继续往下前进的。问题是中国现在连老式的DUV光刻机都制造不了。
所以我想华为在退出M60手机时候之所以低调，应该主要基于：
1. 这个7纳米如何造出来的，内行都知道，采用DUV光刻机，在成本、质量、量产方面都有很大限制，这也是为什么华为不讲这款芯片规格的原因
2. 造出了这个7纳米，后面可能就没啥后劲了，不如低调些。粉红们愿意亢奋一段时间就让他们嗨去，咱还是低调一些好。
https://twitter.com/drunclenyc/status/1698838795464949876?t=w2OElnFPCxaQoK5881GG3w&s=19
了解一下光刻机背景有助于了解这个判断。7纳米技术在5年前国外芯片大厂已经技术成熟，那时候主要用老式的DUV光刻机量产 7 纳米芯片，制作方法是多重图案化（multiple-patterning），其基本操作不是把一片硅片暴露在光下一次就能标出电路设计，而是要做很多次。与一次曝光相比，多重曝光在生产效率、良品率、成本等方面有明显劣势。所以在那个时候，国际前沿正在用新型EUV光刻机测试量产一次曝光造7纳米芯片。到现在，EUV光刻机已经成熟量产，不仅能造7纳米，更小的5纳米、3纳米等也能量产了。
现在问题是，美国的芯片管制，目前是严禁ASML出售EUV光刻机给中国，但是没有禁DUV光刻机。所以拥有DUV光刻机的中国制造出 7 纳米是有可能的，说明中国芯片制造商已经掌握了台积电发明的多重图案化（multiple-patterning）技术。
但是问题的瓶颈是DUV光刻机的制造极限为7纳米，再往下它就做不到了。除非中国能够自己制造出EUV级别的光刻机，否则是很难继续往下前进的。问题是中国现在连老式的DUV光刻机都制造不了。
所以我想华为在退出M60手机时候之所以低调，应该主要基于：
1. 这个7纳米如何造出来的，内行都知道，采用DUV光刻机，在成本、质量、量产方面都有很大限制，这也是为什么华为不讲这款芯片规格的原因
2. 造出了这个7纳米，后面可能就没啥后劲了，不如低调些。粉红们愿意亢奋一段时间就让他们嗨去，咱还是低调一些好。
https://twitter.com/drunclenyc/status/1698838795464949876?t=w2OElnFPCxaQoK5881GG3w&s=19
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