🇨🇳⚡️ — La Cina ha compiuto un ulteriore passo verso l'indipendenza della sua industria dei semiconduttori dai fornitori esteri. Un'azienda con sede a Shanghai ha iniziato la produzione di macchine per litografia DUV a immersione.

▶️ Si prevede che quest'anno verranno costruite cinque unità, e entro il 2027 la produzione dovrebbe aumentare a circa 20 unità.

Questa è una mossa che contribuirà a mitigare l'impatto delle sanzioni occidentali.

▶️ I primi destinatari dei sistemi cinesi saranno SMIC, CXMT e Hua Hong.

▶️ L'aspetto più incerto riguarda le capacità delle nuove macchine.
Non è ancora noto il loro rendimento o quali processi avanzati possono gestire.

▶️ A titolo di confronto, l'ultima macchina TWINSCAN NXT:2150i dell'azienda olandese può processare oltre 300 wafer all'ora, ma l'offerta cinese sarà sicuramente meno efficiente, almeno inizialmente.

▶️ Per CXMT, che produce memorie DRAM utilizzando processi meno avanzati, questa potrebbe non essere una limitazione significativa. Un compito molto più difficile attende SMIC, che potrebbe cercare di utilizzare le apparecchiature per produrre chip di classe 5nm utilizzando tecniche di multi-patterning.

▶️ Ciononostante, anche se le prime macchine cinesi dovessero rivelarsi significativamente meno potenti dei sistemi ASML, il loro lancio ha un'importanza strategica notevole.

▶️ Pechino acquisisce una base per sviluppare ulteriormente la propria tecnologia di litografia e ridurre gradualmente l'impatto delle sanzioni occidentali.