В Китае создан свой фоточувствительный материал для 7 нм техпроцесса

Фоточувствительный материал, который можно применять для техпроцессов до 7 нм, разработан компанией Jiangsu Nata Opto. Она уже отправила пробные образцы фоторезиста своим партнерам, а вот серийный выпуск в объеме 25 тонн в год планируется наладить только через три года.

Сейчас 85% производства фоторезиста для тонких техпроцессов сосредоточены в руках пяти компаний из США и Японии. В условиях торговой войны с США, Китай вынужден локализовать производственные цепочки микроэлектронной продукции.